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次世代大型有機ＥＬディスプレイ、ＮＥＤＯ基盤技術開発事業開始
【ＩＴ】発信：2008/08/05(火) 13:50:40
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〜委託先企業・機関を決定〜
新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）は、平成２０年度「次世代大型有機ＥＬディスプレイ基盤技術の開発（グリーンＩＴプロジェクト）」事業について委託先を決定した。同プロジェクトでは、２０１０年代後半に４０インチ以上で低消費電力の有機ＥＬディスプレイについて、量産実用化を目指す。事業期間は２４年度までの５年間。事業費は年間約７億円を見込んでいる。
委託先（共同提案）に決まったのは、ソニー、東芝松下ディスプレイテクノロジー、シャープ、住友化学、出光興産、産業技術総合研究所、長州産業、ＪＳＲ、島津製作所、大日本スクリーン製造、日立造船の１１社。
地球温暖化問題への対策の一つとして、ＮＥＤＯではＩＴ機器の省エネ対策を行う「グリーンＩＴプロジェクト」を２０年度から開始する。このプロジェクトでは、ディスプレイの大型化が進展している状況を踏まえ、ディスプレイの消費電力低減につながる技術開発を進める。
有機ＥＬディスプレイは低消費電力、高効率発光表示、広視野角特性、高速応答性、超薄型軽量化などを同時実現する次世代ディスプレイ技術として期待されているが、現状では大型化の製造技術は開発されておらず、大型ディスプレイ実現に向けて、製造プロセス技術を含む新基盤技術の開発が不可欠となっている。
そこで今回のプロジェクトでは、２０１０年代後半における大型有機ＥＬディスプレイの量産実用化を、高い生産効率条件で実現するための基盤技術の開発に取り組む。
具体的には、例えば有機膜に損傷を与えず、可視光損失率が低く、シート抵抗値の低い電極を大面積にわたって均質に形成するための材料技術・製造プロセス技術を開発する。
また有機膜や電極に損傷を与えずに、可視光損失率が低く、かつ有機膜の発光特性の経時安定性を保つために高いバリア性を備えた封止膜の材料・構造、製造プロセス技術を開発する。
さらには、高い発光効率を示す有機ＥＬ素子用材料に対し、大面積で高精細なパターニングの可能性をもつ、画素内および画素間にわたる高度な均質性が得られる有機膜製造プロセス技術の開発も進める。
そして、これらの個別要素技術の統合を通じて、フルＨＤ４０インチ以上の有機ＥＬディスプレイに対し、想定される消費電力が４０Ｗ以下になること、また開発した各基盤技術がＧ６サイズ（1500mm×1850mm）以上の基板に対して適用可能であり、高生産性を実現できることを検証する。（科学、7月25日号5面）
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